투과전자현미경 분해능에 영향을 미치는 요인
0.2μm보다 작은 미세 구조는 광학 현미경으로 명확하게 볼 수 없습니다. 이러한 구조를 초미세 구조 또는 초미세 구조라고 합니다.
구조; 초구조). 이러한 구조를 명확하게 보려면 현미경의 분해능을 높이기 위해 더 짧은 파장의 광원을 선택해야 합니다. 1932년에 루스카는 전자빔을 광원으로 하는 투과전자현미경(TEM)을 발명했습니다. 전자빔의 파장은 가시광선이나 자외선에 비해 훨씬 짧으며, 전자빔의 파장은 방출된 전자빔의 전압의 제곱근에 반비례합니다. 즉, 전압이 높을수록 파장은 짧아집니다. TEM의 현재 해상도는 0.2nm에 도달할 수 있습니다.
전자현미경과 광학현미경의 이미징 원리는 기본적으로 동일합니다. 차이점은 전자는 광원으로 전자빔을 사용하고 렌즈로 전자기장을 사용한다는 것입니다. 또한, 전자빔의 투과력이 매우 약하기 때문에 전자현미경에 사용되는 시편은 약 50nm 두께의 초박형 단면으로 제작되어야 한다. 이런 종류의 슬라이스는 울트라마이크로톰(ultramicrotome)으로 만들어야 합니다. 전자현미경의 배율은 거의 백만 배에 달할 수 있습니다. 전자 조명 시스템, 전자기 렌즈 이미징 시스템, 진공 시스템, 기록 시스템 및 전원 공급 시스템의 다섯 부분으로 구성됩니다. 분해된 경우: 주요 부분은 전자 렌즈 및 영상 기록입니다. 시스템은 전자총, 콘덴서, 샘플 챔버,
대물렌즈, 회절렌즈, 중간렌즈,
프로젝션 거울, 형광 스크린 및 카메라.
전자현미경은 전자를 이용해 물체의 내부나 표면을 관찰하는 현미경이다.
고속전자의 파장은 가시광선의 파장보다 짧고(파동-입자 이중성) 현미경의 분해능은 사용하는 파장에 따라 제한되므로 전자현미경의 분해능은 약 0이다. 1nm)는 광학현미경(약 200nm)보다 훨씬 높습니다.
