투과전자현미경 시작하기
투과전자현미경(TEM)은 광학현미경에서는 0.2um 미만의 미세구조에서는 명확하게 볼 수 없으며 이러한 구조를 초미세구조 또는 초미세구조라고 합니다. 이러한 구조를 명확하게 보려면 현미경의 분해능을 향상시키기 위해 더 짧은 파장의 광원을 선택해야 합니다.
소개
전자현미경과 광학현미경의 이미징 원리는 기본적으로 동일합니다. 차이점은 전자빔을 광원으로 사용하고 전자기장을 렌즈로 사용한다는 것입니다. 또한, 전자빔의 투과력이 약하기 때문에 전자현미경에 사용되는 시편은 약 50nm 두께의 초박형 단면으로 제작되어야 한다. 이러한 조각은 초박절편기를 사용하여 만들어야 합니다. 전자현미경 배율은 조명 시스템, 이미징 시스템, 진공 시스템, 기록 시스템, 전원 공급 시스템을 통해 최대 백만 배까지 확대되며, 세분화된 경우 전자 렌즈의 주요 부분과 이미징 기록 시스템이 5개 부분으로 구성됩니다. 전자총, 집광 거울, 물체 챔버, 대물렌즈, 회절 거울, 중간 거울, 투사 거울, 형광 스크린 및 카메라로 진공을 청소합니다.
전자현미경은 전자를 이용해 물체의 내부나 표면을 시각화하는 현미경이다. 고속전자의 파장은 가시광선의 파장보다 짧고(파동-입자 이중성) 현미경의 분해능은 사용하는 파장에 따라 제한되므로 전자현미경의 이론적인 분해능(약 0 0.1나노미터)는 광학 현미경(약 200나노미터)보다 훨씬 높습니다.
투과 전자 현미경(Transmissionelectronmicroscope, 줄여서 TEM) 또는 줄여서 투과 전자 현미경[1]은 가속되고 응집된 전자 빔을 매우 얇은 샘플에 투사합니다. 여기서 전자는 샘플의 원자와 충돌하여 방향을 변경합니다. 입체각 산란. 산란 각도의 크기는 샘플의 밀도 및 두께와 관련되어 있으므로 서로 다른 밝고 어두운 이미지가 형성될 수 있으며 이미지는 이후 이미징 장치(예: 형광체 스크린, 필름 및 광결합 어셈블리)에 표시됩니다. 확대 및 초점.
전자의 De Broglie 파장이 매우 짧기 때문에 투과전자현미경의 분해능은 광학현미경의 분해능보다 훨씬 높아 {{0}}.1 ~ 0.2 nm, 배율은 수만 ~ 0.2 nm에 이릅니다. 수백만 번. 결과적으로 투과전자현미경을 사용하면 시료의 미세한 구조를 관찰할 수 있으며, 관찰할 수 있는 가장 작은 구조보다 수만 배 더 작은 원자 한 줄의 구조도 관찰할 수 있습니다. 광학현미경. TEM은 암 연구, 바이러스학, 재료과학은 물론 나노기술, 반도체 연구 등 중성물리학 및 생물학과 관련된 여러 과학 분야에서 중요한 분석 방법입니다.
낮은 배율에서 TEM 이미징의 대비는 주로 재료의 두께와 구성이 다르기 때문에 전자 흡수가 달라지기 때문입니다. 배율이 높으면 복잡한 변동 효과로 인해 이미지의 밝기에 차이가 발생하므로 결과 이미지를 분석하려면 전문 지식이 필요합니다. TEM의 다양한 모드를 사용하면 화학적 특성, 결정 방향, 전자 구조, 시료로 인한 전자 위상 변화 및 시료의 일반적인 전자 흡수를 통해 시료를 분석할 수 있습니다.
뿐만 아니라 샘플에 대한 일반적인 전자 흡수도 마찬가지입니다.
최초의 TEM은 1931년 Max Knorr와 Ernst Ruska에 의해 개발되었으며, 이 연구 그룹은 1933년에 가시광선을 초과하는 해상도를 가진 최초의 TEM을 개발했으며, 1939년에는 최초의 상업용 TEM이 개발되었습니다.
