관찰 가능한 물질의 측면에서 전자현미경은 광학현미경과 어떻게 다릅니까?
광학 현미경은 광원, 렌즈, 이미징 원리, 해상도, 피사계 심도, 시료 준비 방식이 다르다는 점에서 전자 현미경과 매우 다릅니다. 광학현미경은 일반적으로 광학현미경으로 알려져 있으며 현미경의 조명원인 가시광선의 일종입니다. 광학 현미경은 광학 원리를 사용하여 인간의 눈은 확대된 이미지로 작은 물체를 구별할 수 없으므로 사람들이 광학 기기의 미세 구조에 대한 정보를 추출합니다. 세포 생물학에서 널리 사용됩니다. 광학 현미경은 일반적으로 스테이지, 포커싱 조명 시스템, 대물 렌즈, 접안 렌즈 및 포커싱 메커니즘으로 구성됩니다. 스테이지는 관찰할 물체를 고정하는 데 사용됩니다. 포커싱 노브를 사용하여 포커싱 메커니즘을 구동할 수 있으므로 스테이지를 대략적으로 조정하거나 미세 조정할 수 있어 관찰 중인 물체의 선명한 이미지를 쉽게 얻을 수 있습니다. 광학현미경의 이미지는 역상(상하 반전, 좌우 교환 가능) 전자현미경으로 하이엔드 기술 제품의 탄생으로 우리가 흔히 사용하는 광학현미경도 비슷한 위치에 있지만 광학현미경과 현미경은 매우 다릅니다. 우선 광학현미경은 광원을 사용하는 것이다. 전자현미경은 전자빔을 이용하는 것으로, 둘이 차이의 결과를 볼 수 있는 방법으로, 단일과 세포를 관찰하는 등의 차이를 확대하여 볼 수 있는 것을 광학현미경은 세포와 소기관의 일부만을 볼 수 있다 미토콘드리아나 엽록체와 같은 세포는 세포의 존재만 볼 수 있고 소기관의 구체적인 구조는 볼 수 없습니다. 반면에 전자현미경은 세포 소기관의 미세 구조를 더 자세히 볼 수 있으며 심지어 단백질과 같은 큰 분자도 볼 수 있습니다. 전자현미경에는 투과전자현미경, 주사전자현미경, 반사전자현미경, 방출전자현미경 등이 있습니다. 그 중 주사전자현미경이 더 널리 사용된다. 재료 분석 및 연구 응용 분야에서 주사 전자 현미경은 매우 광범위하며 주로 재료 파괴 분석, 미세 영역 구성 분석, 다양한 코팅 표면 형태 분석, 층 두께 측정 및 미세 구조 형태 및 나노 재료 분석에 사용됩니다. 전자 마이크로프로브를 구성하는 X선 회절계 또는 전자 분광계와 결합하여 재료 분석 등의 구성에 사용됩니다. SEC로 약칭되는 주사 전자 현미경은 새로운 유형의 전자 광학 기기입니다. 이는 진공 시스템, 전자빔 시스템 및 이미징 시스템으로 구성됩니다. 이는 미세하게 집중된 전자 빔을 사용하여 샘플 표면을 스캔하여 여기되는 물리적 신호를 변조합니다. 입사 전자는 샘플 표면이 2차 전자로 여기되도록 합니다. 현미경으로 관찰되는 것은 각 지점에 흩어져 있는 전자입니다. 샘플 옆에 배치된 섬광 결정은 이러한 2차 전자를 수신하고, 이 전자는 증폭되어 CRT의 전자빔 강도를 변조하여 CRT 화면의 밝기를 변경합니다. CRT의 편향 코일은 시료 표면의 전자빔과 동기화되어 CRT의 형광 스크린에 시료 표면의 지형 이미지가 표시됩니다. 이는 간단한 샘플 준비, 조정 가능한 배율, 넓은 범위, 이미지의 높은 해상도 및 넓은 피사계 심도의 특징을 가지고 있습니다. 투과전자현미경 응용 성능:
1, 결정 결함 분석. 정상적인 배열주기를 파괴하는 모든 구조는 공석, 전위, 결정립계, 석출물 등과 같은 결정 결함이라고 통칭됩니다. 도트 매트릭스의 주기성을 파괴하는 이러한 구조는 자신이 위치한 영역의 회절 조건을 변화시켜 결함이 위치한 영역의 회절 조건이 정상 영역의 회절 조건과 달라지게 하며, 형광 스크린에서 밝고 어두운 것의 해당 차이를 보여줍니다.
2, 조직 분석. 다양한 결함 외에도 다양한 회절 패턴을 생성할 수 있으며 이를 통해 조직 형태를 관찰하면서 결정의 구조와 방향을 분석할 수 있습니다.
3, 현장 관찰. 해당 샘플 스테이지를 사용하면 투과전자현미경에서 현장 실험을 수행할 수 있습니다. 예를 들어, 변형 및 파괴 과정을 관찰하기 위해 변형 스트레칭 샘플을 사용합니다.
4, 고해상도 현미경. 재료의 미세 구조를 더 잘 관찰하기 위해 해상도를 향상시키는 것은 사람들이 끊임없이 추구하는 목표였습니다. 전자빔의 위상을 이용한 고해상도 전자현미경은 2개 이상의 간섭성 이미징 빔에 의해 변화하는데, 전자현미경의 해상도는 충분히 높은 조건에서 더 많은 전자빔을 사용할수록 이미지의 해상도가 높아지며 심지어는 원자 구조 이미징의 얇은 샘플에 사용됩니다.
