금속 조직 현미경과 주사 전자 현미경의 차이점
금속현미경은 출사형 조명 기구를 사용하여 금속 재료 시편의 표면(합금 조성)을 관찰하는 광학 현미경입니다. 현미경기술, 광전변환기술, 전자컴퓨터 영상처리 기술을 융합하여 설계, 개발된 신기술 제품입니다. 전자 컴퓨터에서 금속 조직 분석 이미지를 편리하게 관찰할 수 있으며, 금속 조직 분석 이미지를 분석하고 등급을 매기는 것은 물론 이미지 출력 및 복사도 가능합니다.
주사 전자 현미경은 새로운 유형의 광전자 장치 장비입니다. 이는 간단한 샘플 준비, 조정 가능한 배율 범위, 이미지의 높은 화면 해상도 및 넓은 피사계 심도의 특징을 가지고 있습니다. 수십 년 동안 주사전자현미경은 분자생물학, 의학, 야금 등의 산업에서 널리 사용되어 다양한 관련 과정의 발전 추세를 주도해 왔습니다.
두 가지 유형의 광학 현미경 사이에는 다음과 같은 주요 측면에서 상당한 차이가 있습니다.
1, 광원이 다릅니다. 금속 조직 현미경은 가시광선을 광원으로 사용하는 반면, 주사 전자 현미경은 이온빔을 이미징 광원으로 사용합니다.
2, 기본 원리는 다릅니다. 금속 조직 현미경은 이미징을 위해 기하학적 광학 이미징 원리를 사용하고, 주사 전자 현미경은 시편 표면의 고효율 이온빔 음극 전자를 사용하여 시편 표면의 다양한 물리적 데이터 신호를 자극한 다음 다양한 데이터 신호 검출기를 사용하여 물리적 데이터 신호를 수신하고 이를 이미지 정보 콘텐츠로 변환합니다.
3, 화면 해상도: 빛의 간섭 및 투과 효과로 인해 금속 조직 현미경의 화면 해상도는 0.2-0.5um 범위로 제한됩니다. 광원으로 이온빔을 사용하기 때문에 주사 전자 현미경은 1-3nm 사이의 화면 해상도를 달성할 수 있습니다. 따라서 금속현미경의 메커니즘 관찰은 μm 수준 분석에 속하고, 주사전자현미경의 메커니즘 관찰은 나노 수준 분석에 속합니다.
4, 피사계 심도: 일반적으로 금속 조직 현미경의 피사계 심도는 2-3um 사이이므로 시편의 표면 매끄러움 수준에 대한 요구 사항이 매우 높습니다. 따라서 전체 시료 준비 과정은 상대적으로 복잡합니다. 주사전자현미경의 피사계 심도는 매우 넓습니다.
금속현미경은 출사형 조명 기구를 사용하여 금속 재료 시편의 표면(합금 조성)을 관찰하는 광학 현미경입니다. 현미경기술, 광전변환기술, 전자컴퓨터 영상처리 기술을 융합하여 설계, 개발된 신기술 제품입니다. 전자 컴퓨터에서 금속 조직 분석 이미지를 편리하게 관찰할 수 있으며, 금속 조직 분석 이미지를 분석하고 등급을 매기는 것은 물론 이미지 출력 및 복사도 가능합니다.
주사 전자 현미경은 새로운 유형의 광전자 장치 장비입니다. 이는 간단한 샘플 준비, 조정 가능한 배율 범위, 이미지의 높은 화면 해상도 및 넓은 피사계 심도의 특징을 가지고 있습니다. 수십 년 동안 주사전자현미경은 분자생물학, 의학, 야금 등의 산업에서 널리 사용되어 다양한 관련 과정의 발전 추세를 주도해 왔습니다.
