1. 다양한 광원
현미경에 사용되는 조명원은 전자총에서 방출되는 전자류이며, 광학현미경의 조명원은 가시광선(태양광 또는 빛)이다. 서브플로우의 파장은 광파의 파장보다 훨씬 짧기 때문에 전자현미경의 배율과 해상도는 광거울보다 월등히 높다. .
2. 다른 렌즈
전자현미경에서 확대하는 대물렌즈는 전자기렌즈(중심부에 자기장을 발생시킬 수 있는 고리모양의 전자기코일)이고, 광학현미경의 대물렌즈는 유리로 된 광학렌즈이다. 전자현미경에는 3가지 종류의 전자기 렌즈가 있는데 이는 광학현미경의 콘덴서 대물렌즈와 접안렌즈의 기능에 해당합니다.
3. 다른 이미징 원리
전자현미경은 검사 대상 시료에 작용하는 전자빔을 전자기 렌즈로 확대한 후 형광막에 부딪혀 영상을 얻거나 감광성 필름에 작용해 영상을 만든다. 전자 밀도 차이의 메커니즘은 전자빔이 피검체에 작용할 때 입사 전자가 물질의 원자와 충돌하여 산란을 일으키고 시료의 다른 부분은 전자에 대한 산란 정도가 다르며, 따라서 샘플의 전자 이미지는 음영으로 표시됩니다. 광학 현미경에서 샘플의 물체 이미지는 샘플의 다른 구조에 의해 흡수되는 빛의 양의 차이로 인해 발생하는 밝기의 차이로 표시됩니다.
4. 해상도
빛의 간섭과 회절 때문에 광학 현미경의 해상도는 02-05um으로 제한될 수 있습니다. 전자현미경은 전자빔을 광원으로 사용하기 때문에 고장률은 1~3nm에 이를 수 있습니다. 따라서 광학현미경의 조직 관찰은 미크론 수준의 분석에 속하고, 전자현미경의 조직 관찰은 나노 수준의 분석에 속한다.
5. 심도
일반적으로 광학 현미경의 피사계 심도는 2-3um 사이이므로 샘플의 표면 평활도가 매우 까다롭기 때문에 샘플 준비 과정이 상대적으로 복잡합니다. SEM의 정신은 수 미터에 달할 수 있으므로 샘플 표면 기하학의 매끄러움에 대한 요구 사항이 없으며 샘플 준비가 비교적 간단하며 일부 샘플 기하학은 샘플 준비가 필요하지 않습니다. 실체 현미경은 피사계 심도가 비교적 크지만 해상도가 매우 낮습니다.
6. 다른 검체 준비 방법이 사용됩니다.
준현미경 관찰에 사용되는 조직 및 세포 표본의 준비 절차는 복잡하며 기술적 어려움과 비용이 높습니다. 샘플링, 고정, 탈수 및 포매 단계에서 특수 시약 및 작업이 필요합니다. 마지막으로 포매된 조직 블록을 울트라마이크로톰에 넣어 50~100nm 두께의 초박형 표본으로 절단해야 합니다. 광학 현미경으로 관찰되는 표본은 일반적으로 일반 조직 절편 표본, 세포 도말 표본, 조직 압착 표본 및 세포 드롭 표본과 같은 유리 슬라이드 위에 놓습니다.
7. 배율
광학 현미경의 유효 배율은 1000X입니다. 좋은 전기 현미경의 유효 배율은 1000,000X에 달할 수 있습니다.
